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Electromigration Modeling at Circuit Layout Level


Feifei He , Cher Ming Tan


Integrated circuit (IC) reliability is of increasing concern in present-day IC technology where the interconnect failures significantly increases the failure rate for ICs with decreasing interconnect dimension and increasing number of interconnect levels....

Parution : 2013-03-16
Format(s) : ePub
Éditeur : Springer
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